Вакуумная установка ВУ-2М

Вакуумная установка предназначена для нанесения в вакууме нанопокрытий на оптические и другие детали методом электронно-лучевого и резистивного испарения диэлектриков, полупроводниковых материалов и металлов с одновременным фотометрическим контролем толщины покрытий.

Вакуумная установка обеспечивает возможность нанесения металлических, диэлектрических, полупроводниковых однослойных и многослойных, композитных, просветляющих, ахроматических, интерференционных, зеркальных, фильтрующих, токопроводящих и других функциональных покрытий для области спектра ограниченной длинами волн в диапазоне 400-1100 нм.

Конструкцией изделия предусмотрена возможность ионно-лучевого ассистирования процесса осаждения пленки и очистки поверхности подложек перед нанесением покрытий.

В установке предусмотрены: откачка камеры, ионная очистка и нагрев деталей в автоматическом режиме; нанесение покрытий в ручном режиме.

Технические характеристики

Время достижения в камере давления 3×10^-3 Па при выведенном на рабочий режим диффузионном насосе, мин, не более	30
Натекание в камеру после прогревания ее в течение 10 часов и последующей откачки воздуха из камеры до давления 6×10^-4 Па в течение 1 часа, замеренное при закрытом форвакуумном клапане и высоковакуумном затворе, Вт, не более	4,0×10^-4
Регулируемый диапазон частоты вращения арматуры, с^-1 (об/мин)	от 0,1 до 10 (от 6 до 60)
Диапазон нагрева обрабатываемых подложек, ^оС	от 50 до 350
Время напускавоздухав камеру, с, не более	90
Контролируемый диапазон рабочего давления в камере при напуске технологических газов, Па	от 1,33×10^-3 до 1,33
Количество электронно-лучевых испарителей (ЭЛИ), шт.	2
Мощность ЭЛИ, кВт Ускоряющее напряжение ЭЛИ, кВ Максимальный ток ЭЛИ, мА Величина тока накала ЭЛИ,А Размер сфокусированного пятна электронного пучка ЭЛИ, мм, не более Диапазон перемещения электронного пучка ЭЛИ по двум взаимно перпендикулярным координатам, мм, не менее: По осиХ По осиY	6 ; 12 12 480 10-30 5х8 от-15 до +15 от-15 до +15
Количество резистивных испарителей, шт.	1
Мощность резистивных испарителей, кВт Напряжение на трансформаторах резистивных испарителей: на холостом ходу, В при параллельном соединении обмоток,В Максимальный ток резистивного испарителя при параллельном соединении вторичных обмоток трансформатора, А не более Максимальный ток резистивного испарителя при последовательном соединении вторичных обмоток трансформатора, А не более Напряжение источника питания тлеющего разряда ионной очистки при токе (0,04-0,02) А и при напряжении сети 220В, В, не более Диапазон регулирования тока ионной очистки, А Диапазон регулирования времени ионной очистки, мин	4 12 24 290 150 2200 от 0,04 до 0,4 от 3 до 30
Размеры рабочей вакуумной камеры, мм: - диаметр - высота	700 776
Количество ионных источников, шт. Энергия пучка ионов, эВ Ток рязряда. А, не менее Ионный ток, А, не более Апертура	1 От 20 до 150 5 1,2 40°
Установленный срок службы до капитального ремонта, при двухсменной работе с соблюдением правил эксплуатации, шт., не менее	8
Мощность, потребляемая вакуумной установкой, кВт, не более	30
Общая площадь, занимаемая вакуумной установкой, м², не более	8
Высота вакуумной установки, мм	2100
Масса вакуумной установки (всех составных частей), кг, не более	2500
*Состав установки:*
Высоковакуумный пост, состоящий из: А) вакуумной рабочей камеры: - материал – сталь 12Х18Н10Т; - диаметр – 700 мм; - высота – 776 мм; Б) Высоковакуумного пневматического затвора Ду 400: - материал – сталь 12Х18Н10Т В) Форвакуумных и байпасных клапанов с пневмоприводом Ду 63: - материал – сталь 12Х18Н10Т Г) Системы форвакуумных и байпасных клапанов с пневмоприводом Ду63: - материал – сталь 12Х18Н10Т Д) Форвакуумного агрегата: - 1-я ступень – пластинчато-роторный насос; - 2-я ступень – двухроторный насос типа РУТС; - производительность – не менее 60л/с Е) Насоса высоковакуумного: - диффузионного насоса- НДВМ-400 Ж) Комплекта вакуумных датчиков, обеспечивающих надежную и безаварийную работу всех систем и узлов вакуумной установки
Система пневматическая
Система гидравлическая (охлаждение)
Система напуска технологических газов на основе электромагнитных натекателей
Комплект технологических источников: Два электронно-лучевых испарителя с блоками питания: - мощность ЭЛИ –6кВт - источниктлеющего разряда - резистивный испаритель
Комплект внутрикамерной технологической оснастки с приводом вращения и высоковакуумным вводом: А) Привод вращения и высоковакуумный ввод расположены на нижней плите вакуумной камеры. Б) Регулируемая скорость вращения – 0 …60 об/мин В) Технологическая оснастка: - сферический куполообразный держатель; - три планетарно вращающихся сферических держателя
Система нагрева на базе ТЭНов с равномерным распределением температуры Температура 50 … 350 ^оС
Система контроля и измерения: - спектральный оптический контроль отражения и пропускания 400 … 1100 нм; - блок измерения вакуума - контроль температуры подложек с точностью ±5^оС; - контроль скорости вращения.
Система управления. Система управления обеспечивает безаварийныйрежим как управления процессом откачки, так и всего технологического процесса в целом