Изделие предназначено для нанесения покрытий на оптические детали методом резистивного и электронно-лучевого испарения диэлектриков, полупроводниковых материалов и металлов с одновременным контролем толщины покрытия. Установка обеспечивает возможность нанесения многослойных ахроматических покрытий на деталях серийной продукции, а также металлических, однослойных просветляющих, интерференционных зеркальных, фильтрующих и других для различных областей спектра. Установка может эксплуатироваться в закрытых сухих помещениях промышленных объектов категории 4.2. по ГОСТ 15150-69 и климатических условиях:
Давление в камере при одновременном нагреве ее до 3200С и при охлаждении всех ловушек жидким азотом, Па | 4х10-4 |
Время достижения давления 4.10-4Па ,мин ,не более | 30 |
Регулируемая температура нагрева в камере, С0 | от 100 до 320 |
Количество резистивных испарителей, шт. | 2 |
Количество электронно-лучевых испарителей, шт. | 1 |
Вместимость деталей размерами, шт. | |
|
|
Напряжение источника питания тлеющего разряда ионной очистки на холостом ходу, В | от 2175± 20% до 4350± 20% |
Максимальный ток тлеющего разряда ионной очистки А, не более | 0,4 |
Максимально допустимый ток резистивного испарителя при напряжении на трансформаторах А, не более: | |
|
|
Максимальный ток электронно-лучевого испарителя, мА | 480±20 |
Мощность , потребляемая установкой, кВт, не более | 20 |
Масса установки, кг, не более | 1 900 |
Площадь, занимаемая установкой, м2, не более | 6 |