Вакуумная установка ВУ-1А

Изделие предназначено для нанесения покрытий на оптические детали методом резистивного и электронно-лучевого испарения диэлектриков, полупроводниковых материалов и металлов с одновременным контролем толщины покрытия. Установка обеспечивает возможность нанесения многослойных ахроматических покрытий на деталях серийной продукции, а также металлических, однослойных просветляющих, интерференционных зеркальных, фильтрующих и других для различных областей спектра. Установка может эксплуатироваться в закрытых сухих помещениях промышленных объектов категории 4.2. по ГОСТ 15150-69 и климатических условиях:

температура окружающей среды от 170С до 270С; относительная влажность от 40 до 75%;
атмосферное давление от 8,4.104 до 10,6.104Па ( 630 до 780 мм.рт.ст.) В состав установки входит:
откачной пост (с высоковакуумными откачными средствами, вакуумной системой и пневмо-гидроаппаратурой);
форвакуумный агрегат;
электрооборудование (с двумя стойками управления- управление вакуумной системой и управление технологическими источниками).

Технические характеристики

Давление в камере при одновременном нагреве ее до 320⁰С и при охлаждении всех ловушек жидким азотом, Па	4х10^-4
Время достижения давления 4.10^-4Па ,мин ,не более	30
Регулируемая температура нагрева в камере, С⁰	от 100 до 320
Количество резистивных испарителей, шт.	2
Количество электронно-лучевых испарителей, шт.	1
Вместимость деталей размерами, шт.
диаметром 40 мм диаметром 70 мм	70 6
Напряжение источника питания тлеющего разряда ионной очистки на холостом ходу, В	от 2175± 20% до 4350± 20%
Максимальный ток тлеющего разряда ионной очистки А, не более	0,4
Максимально допустимый ток резистивного испарителя при напряжении на трансформаторах А, не более:
12В 24В	300 150
Максимальный ток электронно-лучевого испарителя, мА	480±20
Мощность , потребляемая установкой, кВт, не более	20
Масса установки, кг, не более	1 900
Площадь, занимаемая установкой, м², не более	6