Вакуумная установка ВУ-2ММ

 ВУ-2ММ

Установка предназначена для нанесения оптических функциональных тонкопленочных покрытий методами термического испарения с использованием электронно-лучевых и резистивных испарителей в условиях крупносерийного производства. Конструкцией изделия предусмотрена возможность ионно-лучевого ассистирования процесса осаждения пленки. Контроль за процессом откачки и технологическими параметрами цикла осуществляет автоматизированная система управления технологическим процессом. Изделие оснащено системой фотометрического контроля оптической толщины пленки в диапазоне длин волн 250-1100 нм и системой измерения физической толщины и скорости осаждения покрытия по изменению параметров кварцевого резонатора.

Технические характеристики:

1. Рабочее давление в камере установки, Па 6х10-4
2. Время достижения остаточного давления 6х10-4 Па, мин 30
3. Количество/максимальная мощность испарителей, шт/кВА
  • электронно-лучевых
  • резистивных
2/6
1/4
4. Количество ионно-лучевых источников/максимальный ионный ток, шт/А 1/1
5. Максимальная масса подложек, устанавливаемых на арматуру, кг 10
6. Максимальная температура нагрева подложек, °С 320
7. Скорость вращения арматуры, об/мин 6-60
8. Максимальное число слоев покрытия, получаемое в одном технологическом цикле под управлением АСУТП, шт 32
9. Мощность, потребляемая установкой, кВА 40
10. Общая площадь, занимаемая установкой, м2 8
11. Масса установки, кг 2150