Вакуумная установка ВУ-400А ВУ-400Б

 ВУ-400

Установки предназначена для получения тонкоплёночных покрытий с использованием метода распыления материала мишени ионным лучом с одновременным ассистированием процесса осаждения плёнки низкоэнергетическим потоком ионов.

Используются в составе комплекса лабораторного оборудования, а также в производстве мелких серий изделий микро и оптоэлектроники.

Работают в ручном, полуавтоматическом и автоматическом режимах управления откачкой рабочего объёма камеры.

Оснащены безмасленной системой откачки, на базе криогенного насоса НВК-3.2.

Комплектуются двумя ионными источниками:

  • ионный источник очистки подложек обеспечивает полную бомбардировку поверхности подложек под средним углом 60`. Средняя энергия ионов регулируется в пределах 400- 600ЭВ.
  • ионный источник осаждения покрытия служит для создания потока ионов бомбардирующих мишень и распыляющих её материал с целью осаждения его на поверхность подложки. Средний угол бомбардировки 30` по отношению к поверхности мишени. Средняя энергия ионов 500...3500 эВ.
  • Установки оснащены кварцевой системой контро- ля толщины покрытия.

    Установка ВУ-400А ориентирована для получения защитного покрытия AL2O3 толщиной от 50Ао неравномерностью не хуже 10% на микроканальные пластины электронно-оптических преобразователей третьего поколения и оснащена неподвижным подложкодержателем, охлаждаемым жидким азотом.

    Установка ВУ-400Б предназначена для получения покрытий: AL; SiO2; Si3N4; Ni-Cr толщиной до 200 Ао с неравномерностью не хуже 10% на деталях ОЭП третьего поколения и имеет вращаемый неохлаждаемый подложкодержатель.

Технические характеристики:

Время достижения давления 1 х 10-4 Па (7.5 х 10-6 рт.ст) после прогрева рабочего объема камеры, при рабочем режиме криогенного насоса, мин. не более
60
Натекание в вакуумную камеру после прогревания ее в течение 10 ч. и последующей откачки воздуха из камеры до давления 1 х 10-4 Па (7.5 х 10-6) в течение 1 ч., замеренное при закрытых форвакуумном клапане и затворе, Вт не более
2 х 10-4
Контролируемый диапазон температуры прогрева рабочего объема камеры, С0
50-380
Контролируемый диапазон рабочего давления в камере при напуске технологического газа в режимах очистки от и осаждения, Па
4 х 10-2-1 х 100
Время напуска воздуха в камеру, С не более
60
Внутренний диаметр рабочей камеры, мм
400
Расход холодной воды, л/с не менее
0.14
Расход горячей воды, л/с не менее
0.06
Максимальная мощность потребляемая вакуумной установкой, кВт
16
Общая площадь, занимаемая вакуумной установкой, м2
8
Масса кг
1650